真空质量流量控制器 | Alicat层流DP型 | CVD/PVD/ALD工艺气体控制

在半导体和薄膜沉积工艺中，真空环境下的气体流量控制精度直接影响薄膜质量和工艺重复性。Alicat真空质量流量控制器专为CVD、PVD、ALD等真空应用设计，采用层流差压测量原理，无需温度压力补偿即可实现高精度质量流量控制，确保工艺气体按设定比例稳定输送。

该系列控制器具备出色的重复性和泄漏保护设计，能在低真空至中真空范围内稳定运行，响应速度快，抗污染能力强，适合多种腐蚀性及特殊工艺气体。其数字式控制界面支持多气体校准和本地/远程设定，方便集成到自动化系统中。

对于追求高均匀性和低缺陷率的薄膜沉积工艺，Alicat真空质量流量控制器是提升工艺稳定性和生产效率的可靠选择。无论是研发实验室还是量产线，其精确的控制能力和耐用性都能满足严苛的工业要求。